Установки обеспечивают возможность создания поверхностных наноструктур самыми распространенными способами - термическим напылением (распылением лазером горячей мишени, ВАТТ 450ГЭ), магнетронным распылением (в инертном газе без нагревания мишени, ВАТТ 450МС), а также осаждением из газовой фазы (т.е. методом газофазной эпитаксии, ВАТТ 450Пх).